THESE CIFRE ORSAY PHYSICS/IM2NP: CARTOGRAPHIE 3D DES
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THESE CIFRE ORSAY PHYSICS/IM2NP: CARTOGRAPHIE 3D DES
THESE CIFRE ORSAY PHYSICS/IM2NP: CARTOGRAPHIE 3D DES MATERIAUX DANS DES NANOCOMPOSANTS DE LA MICROELECTRONIQUE : UTILISATION D’UN NOUVEL EQUIPEMENT UHV COUPLANT FIB/SEM ET SIMS Un des verrous de l’industrie de la microélectronique est de déterminer la distribution spatiale des matériaux constituant les composants de taille ultime, ce qui nécessite des nano-analyses chimiques très sensibles et de résolution nanométrique. A de telles échelles, la relaxation des contraintes en bord de motif, induit des distributions inhomogènes des éléments qui peuvent devenir rédhibitoires pour l’utilisation de composants de très petites tailles. Durant cette thèse, il s’agira de donner une cartographie chimique en 3D de nano-systèmes de référence (taille, composition, contrainte et morphologie parfaitement connues) afin d’évaluer les spécifications de la nano-analyse par SIMS et de l’optimiser pour ces applications. La thèse (bourse CIFRE) sera réalisée conjointement à ORSAY PHYSICS (Fuveau-13) et à l’IM2NP (Marseille-13). ORSAY PHYSICS a développé un nouvel équipement UHV couplant une sonde ionique de très haute résolution, à une imagerie électronique à balayage et à un spectromètre de nano-analyse chimique (SIMS). Par ailleurs, l’équipe NSE de l’IM2NP est spécialisée dans le dépôt épitaxial ultime et la nanocaractérisation de nanostructures semiconductrices. Le travail consistera d’une part à réaliser les nanostructures (de composition, morphologie, taille et forme contrôlées à l’échelle nanométrique), et d’autre part à déterminer leur composition chimique spatiale. Le but est d’adapter la nano-analyse SIMS aux applications de la microélectronique. Merci d’adresser votre candidature à : [email protected] One of the bottlenecks in microelectronics industry is to determine the spatial distribution of materials constituting the devices of ultimate size. This requires chemical nano-analyses with large sensitivity and nanometric resolution. At such scales, the strain relaxation on the patterns edges induces inhomogeneous distribution of the elements which can become prohibitive for the use of ultra-small devices. During this thesis, the target will be to provide a 3D mapping of benchmarked nano-systems (size, composition, strain and morphology fully known)in order to evaluate the specifications of SIMS nano-analysis and to optimize the instrument for this kind of applications. The thesis (CIFRE grant) will be jointly realized in ORSAY PHYSICS ( FUVEAU-13) and in IM2NP ( Marseille-13). ORSAY PHYSICS developed a new UHV equipment combining ultra-high resolution ion beam, scanning electron imaging and SIMS spectrometer for chemical nano-analyses. Furthermore, the NSE team of IM2NP is specialized in ultimate epitaxial deposition and nanocharacterization of semiconductor nanostructures. The work will mainly consist of on one side the elaboration of nanostructures (of composition, morphology, size and shape) controlled at the nanometer scale) and on the other side the determination of their spatial chemical composition. The aim is to fit the SIMS nano-analyses specifications to the microelectronic requirements. Thank you for sending your candidature to : [email protected]
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