ToF-SIMS
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11/24/2011 ToF-SIMS Time of Flight – Secondary Ion Mass Spectroscopy Laurent DUPUY BIOPHY RESEARCH du silicium aux objets communicants Plan Principe de la technique Différents modes d’analyse Echantillonnage type ( taille , forme , nature ..) Exemples applicatifs (spectres, profils, images) Conclusion du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 2 1 11/24/2011 Principe de la technique Reflectron Time of Flight Analyser Canon Cs ou O (250eV…2 keV) Detecteur Flood Gun Canon Bimn+ 25 keV avec m=1..3 n=1..2 Time of Flight (ToF) t (i ) = a ( m / z ) .b Echantillon Utilisation d’ions primaires Bimn+ de forte énergie avec des faibles densités de courant (~1pA). du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 3 24 novembre 2011 4 Principe de la technique Analyse élémentaire et moléculaire De l’Hydrogène aux masses > 1000 … 10 000 uma Abondance isotopique Ions positifs et négatifs du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 2 11/24/2011 Principe de la technique I (A ) = I ± Dispersion de l'énergie et desorption au point d'impact des ions primaires ( ) I A± Ip Trajetoire Faisceau d'Ions Primaires E(r) Energie diffusée Ions Atomiques Petits Ions Ions Fragments Ions Moléculaires Radicaux Point d'impact Radicaux Neutres Ions Fragments Ions Moléculaires Neutres γ Zone d'énergie intense r 0 .DA .S M .PA± .γ A( M ) . f A .C A intensité du courant ionique secondaire mesuré intensité du courant d'ions primaires DA efficacité de détection (facteur instrumental, transmission-détection) SM taux de pulvérisation spécifique par unité de concentration ± A( M ) Surface Cascade de collision p ± PA± fA CA rendement d'ionisation de l'élément A dans la matrice M probabilité de formation du fragment A± (cas d'ion fragment) abondance isotopique de l'élément A concentration de l'élément A dans la matrice M r Distance point d'impact du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 5 Différents modes d’analyse Analyse de surface : Très bonne résolution moléculaire (~10000), très bonne sensibilité (ppm…ppb pour les éléments et femtomole pour les molécules), analyse de l’extrême surface (1nm). Profil : Utilisation de canons dédiés à l’abrasion. Canons Cs et O2 disponibles avec énergie réglable de 250eV à 2keV. Imagerie chimique de surface : Résolution latérale de 100 nm à 2 µm avec résolution spectrale allant de l’unitaire à 10000. Pour les réglages avec une bonne résolution latérale, la sensibilité baisse par rapport au réglage analyse de surface. Couplage possible : imagerie et profil du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 6 3 11/24/2011 Différents modes de réglage du canon primaire Imagerie chimique très haute résolution latérale (Ex mode) Analyse de surface Mode bunched Imagerie chimique avec résolution latérale ~300 nm et résolution spectrale ~5000 (BA mode avec burst) du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 7 Echantillonnage Type TOF-SIMS (IONTOF TOF 5) Support backmount : − 14 x 12 mm, épais. : 7mm (12 échantillons) − 14 x 35 mm, épais. : 7mm (5 échantillons) Support topmount : − Max: 80 x 70 mm Spécifications : − les échantillons doivent supporter l’ultravide − possibilité d’analyse des poudres et des liquides (après séchage) − ne pas conditionner les échantillons dans du plastique (préférer l’aluminium) du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 8 4 11/24/2011 Exemples de spectre de surface ToF-SIMS spectra of poly(ethylene terephtalate) x 10 C O O C O 4 O CH2 CH2 n 12 C 10 -C7H4O + O 8 + HO C C O 2 [M+H] + -C10H9O4 -C2H3 4 -C4H2 Counts 6 -C8H5O3 -C6H4 O 0 0 60 80 100 m/z (pos) 120 140 1.5 C O 180 HO O C C O O O - [M-H]+ -C5H9SO4 -C6H4 -C4H 0.5 -C7H5O2 1 0 0 200 - - Counts 160 -C10H7O4 x 10 40 -C2H 2 20 4 20 40 60 du silicium aux objets communicants 80 100 m/z (neg) 120 140 Préparé par: Laurent DUPUY 160 180 200 24 novembre 2011 9 Spectre (ions positifs) PET + Irgafos 168 Zoom sur la masse m/z = 69 du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 10 5 11/24/2011 Spectre (ions négatifs) PP Sample: Origin: Date: 5. PP Very Clean Biophy Wed Apr 19 2006 x105 Intensity CH 3.0 C4 H 2.0 10 x104 20 30 40 0.6 0.4 50 400 x101 C6 H 7.0 Intensity Intensity 418 0.8 0.2 1.0 5.0 3.0 450 500 550 : perfluorinated polyether 627 4.0 3.0 2.0 1.0 1.0 80 100 120 140 x103 160 600 palmitate 180 200 220 240 260 280 300 650 700 750 800 850 x101 : Irganox 1010 1.4 1.2 1.0 0.8 0.6 0.4 0.2 Intensity Intensity File: T78354.DAT Polarity: negative Comment: Piece 2 - - x102 C2 H 4.0 Intensity Bi3 + 6.24E+007 100x100 µm² PI: PI Dose: Area: 3.5 3.0 2.5 2.0 1.5 1.0 0.5 320 (M-H) - 900 mass / u du silicium aux objets communicants 950 1000 1050 Préparé par: Laurent DUPUY 1100 1150 mass / u 24 novembre 2011 11 Effet d’un traitement plasma N2 sur PP x10 5 PP référence Intensity 5.0 4.0 3.0 2.0 x5 1.0 50 x10 Effet du Plasma N2 : greffage de fonction PP traité plasma N2 4.0 Intensity [amu] 5 CN 3.0 C2H2N 2.0 C4H4N x5 1.0 50 du silicium aux objets communicants [amu] Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 12 6 11/24/2011 Fragmentations Irgafos 168 du silicium aux objets communicants 24 novembre 2011 Préparé par: Laurent DUPUY 13 Exemples d’applications profils Distribution de dopants [atoms/cm3] dans les semiconducteurs Substance Mass B 11.01 Col or Concentration 102 0 101 9 101 8 5 du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 10 15 20 25 30 Dept h 35 40 45 50 55 / nm 24 novembre 2011 14 7 11/24/2011 Dépôt ’barrière’ sur film polymère SiO2 (8nm)/SiOcarbon(250nm)/SiO2 (8nm) sur PET Sum Data Points: 5 Symbol Substance C 30 Si SiO 5 10 Si2O C7H4O Intensity 104 103 102 101 1000 2000 du silicium aux objets communicants 3000 Time / s Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 15 Exemples d’applications imagerie Imagerie chimique d’un défaut Al Image optique micro du ToF-SIMS Na Mg K ions positifs Ca F Cl AlO ions négatifs Si2 Image SEM du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 16 8 11/24/2011 Image chimique de l’interface d’une soudure Cu Si Na Al Cu K Image SE en ToF-SIMS Si Na Cu Al K du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 17 Répartition d’un additif en surface d’un polymère Image de répartition d’un agent de démoulage (stéarate : 283 uma) en surface d’une pièce polymère -champ de vue 200 x 200 µm 2 du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 18 9 11/24/2011 Analyse des sucres dans un granule homéopathique du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 19 24 novembre 2011 20 Exemples d’applications : macro raster du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 10 11/24/2011 Macro raster sur textile PET K du silicium aux objets communicants Additif Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 21 Exemples d’applications : analyse après nettoyage ionique de la surface Si du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY CxHy 24 novembre 2011 22 11 11/24/2011 Exemples d’applications microélectronique Identification de contaminations Analyse de défauts Suivi de la contamination salle blanche (organiques) Suivi de la contamination métallique de surface de wafers Profils en profondeurs shallow ( shallows implants, oxydes de grilles …) du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 23 Conclusion Mode Statique (= analyse de surface) • Faible endommagement de la surface : analyse moléculaire • Haute sensibilié : ppm ou femtomole • Haute sensibilité à la surface : profondeur 0.2-0.5 nm • Ensemble important d’informations : analyses statistiques multivariables Performances instrumentales • Haute résolution en masse (~10000 à 28 Dalton) • Haute précision en masse (~10 ppm) • Transmission constante en fonction de la masse • Masses détectées élevées (10000 D) • Analyse des isolants avec le Flood Gun • Couplage des canons (analyse/érosion) pour réaliser des profils • Imagerie moléculaire grace à la faible taille de la sonde Bi (< 0.2 µm) Inconvénients • Haute sensibilité à la surface : contamination • Interprétation laborieuse des données : fragmentation-ionisationdésorption des espèces moléculaires • Quantification difficile : effets de matrice • Sensibilité dégradée en mode profil et image • Localisation optique difficile des zones de faible dimension du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 24 12 11/24/2011 Comparatif D-SIMS / ToF-SIMS • SIMS dynamique – – – – Dose d’ions primaires > 1 mA/cm2 Analyse élémentaire Sensibilité élevée (traces) Semiconducteurs, métaux • SIMS statique – – – – – Dose d’ions primaires < 1 nA/cm2 Analyse moléculaire Extrême surface, contamination Industrie chimique Polymères, biomatériaux, … du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 25 Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 26 BA du silicium aux objets communicants 13 11/24/2011 BA avec BURST mode du silicium aux objets communicants Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 27 Préparé par: Laurent DUPUY 24 novembre 2011 28 HC-Bunched du silicium aux objets communicants 14